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目的 用均匀设计结合释放模型分析,探讨雪上一枝蒿涂膜剂的最佳制剂工艺条件.方法 以制剂成型性指标和累积释药率评分为指标,采用均匀设计法考察药物、PVA、甘油、氮酮用量对制剂外观质量及释放药物性能的影响,用线性回归分析方法建立测评指标与考察因素间的数学模型,结合GLP算法与释放过程数学模型分析结果进行综合平衡,得到最佳制剂工艺条件.结果 确定最佳制剂工艺条件为药物5.0
作者：赵颖；林亚平；靳风云；彭小冰
来源：中草药 2008 年 39卷 12期
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